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技術(shù)文章

Technical articles

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  • 20242-28
    石英管真空封管機(jī)選購(gòu)要注意哪些

    石英管真空封管機(jī),是一種專(zhuān)門(mén)用于將樣品放入石英管內(nèi)進(jìn)行真空密封保存的設(shè)備。它采用動(dòng)密封技術(shù),讓石英管在自動(dòng)旋轉(zhuǎn)的同時(shí)進(jìn)行抽真空、充氣氛封裝,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)樣品的無(wú)氧無(wú)水真空密封保存。石英管真空封管機(jī)主要由是有封管機(jī)+氫氧機(jī)火焰機(jī)+真空泵組成。其中,真空封管機(jī)是實(shí)現(xiàn)石英管抽真空和密封的關(guān)鍵設(shè)備,氫氧機(jī)則通過(guò)電解水技術(shù)產(chǎn)生氫氧火焰,用于對(duì)石英管進(jìn)行快速熔封,而真空泵則用于對(duì)石英管進(jìn)行抽真空操作。那么購(gòu)買(mǎi)石英管真空封管機(jī)應(yīng)該注意哪些點(diǎn)呢?1、氣密性:作為真空密封的設(shè)備,首先是要有好的氣...

  • 20242-4
    規(guī)管清洗保養(yǎng)

    冷陰極規(guī)管經(jīng)長(zhǎng)時(shí)間使用或在高油蒸汽的環(huán)境中工作后,會(huì)在電極表面形成褐色的碳化物,此污染物會(huì)影響規(guī)管的正常工作狀態(tài)。會(huì)引起啟動(dòng)困難和測(cè)量誤差。當(dāng)規(guī)管使用較長(zhǎng)時(shí)間或出現(xiàn)上述問(wèn)題時(shí),應(yīng)該對(duì)規(guī)管進(jìn)行清洗保養(yǎng)。先按下圖拆下電極,然后用0號(hào)砂紙對(duì)電極表面的褐色碳化物進(jìn)行清除,直至全部去除為止,然后用丙酮輕輕擦除干凈。按順序裝回電極,擰緊。注:拆下電極后,清洗前一定要先拆下探針,以免弄壞探針和損傷手指,清洗完成,裝回電極時(shí),應(yīng)當(dāng)帶上細(xì)沙手套,保持電極的清潔。

  • 20241-26
    電感耦合和電容耦合的區(qū)別和應(yīng)用場(chǎng)景

    1.電感耦合(InductivelyCoupledPlasma,ICP):電感耦合等離子體是通過(guò)高頻磁場(chǎng)與等離子體的相互作用來(lái)傳遞能量的。在電感耦合的過(guò)程中,高頻電流通過(guò)螺線(xiàn)管產(chǎn)生高頻磁場(chǎng),高頻磁場(chǎng)切割等離子體產(chǎn)生渦旋電流,從而將能量傳遞給等離子體。這種方式的優(yōu)點(diǎn)是穩(wěn)定性好,能量傳遞高效,適用于高密度等離子體的產(chǎn)生,廣泛應(yīng)用于材料刻蝕、沉積和離子輔助沉積等領(lǐng)域。2.電容耦合(CapacitivelyCoupledPlasma,CCP):電容耦合等離子體是通過(guò)交變電場(chǎng)與等離子體...

  • 20241-26
    中頻和射頻等離子清洗機(jī)之間的主要區(qū)別是

    1.工作頻率:40KHz等離子清洗機(jī)的工作頻率為40千赫(40,000赫茲),而13.56MHz等離子清洗機(jī)的工作頻率為13.56兆赫(13,560,000赫茲)。工作頻率不同會(huì)導(dǎo)致設(shè)備清洗效果和適用范圍上的差異。2.清洗效果:40KHz的低頻等離子清洗對(duì)于大多數(shù)材料都可以達(dá)到較好的清洗效果,但對(duì)于一些微米或亞微米級(jí)別的顆粒或污染物去除效果可能不佳。而13.56MHz高頻等離子清洗則在去除顆粒尺寸較小的污染物方面具有更高的功效,能夠提供更*的清洗效果。3.清洗速度:13.56...

  • 20241-23
    真空冷阱表面為什么會(huì)有水

    1、空氣的液化溫度取決于空氣的組成成分。一般來(lái)說(shuō),空氣主要由氮?dú)狻⒀鯕夂蜕倭科渌麣怏w組成。在標(biāo)準(zhǔn)大氣壓下(約為1個(gè)大氣壓,相當(dāng)于101.325千帕),液態(tài)氮的沸點(diǎn)約為-196攝氏度(-321華氏度),液態(tài)氧的沸點(diǎn)約為-183攝氏度(-297華氏度)。因此,空氣的液化溫度應(yīng)該在這兩個(gè)溫度之間。請(qǐng)注意,這些數(shù)值是在標(biāo)準(zhǔn)條件下給出的,實(shí)際情況可能會(huì)受到氣壓和空氣成分的變化而有所不同。2、當(dāng)空氣的溫度降低到液氮的沸點(diǎn)-196攝氏度(-321華氏度)以下時(shí),氮?dú)獬煞謺?huì)開(kāi)始液化,從氣體狀...

  • 20241-16
    晶振片故障現(xiàn)象、原因及解決辦法

    探頭故障現(xiàn)象、原因及排除方法1、沉積期間厚度讀數(shù)大跳變a.不良晶片產(chǎn)生解決方案:更換晶片b.晶片接近其使用壽命解決方案:更換晶片c.晶片支承座表面有雜物解決方案:用酒精或細(xì)砂皮清洗支承座d.來(lái)自濺射源的頻率干涉解決方案:檢查接地,儀器遠(yuǎn)離濺射源2、沉積期間晶體停振,但晶片壽命未到a.晶片被來(lái)自鍍膜源熔化材料小熔滴撞擊解決方案:鍍膜起始階段用檔板遮蔽后移開(kāi)b.不良晶片解決方案:更換晶片c.晶片支承座內(nèi)腔表面有雜質(zhì)解決方案:清洗3、晶體在真空中振蕩,單暴露空氣后停振a.晶體接近使...

  • 20241-8
    直流負(fù)壓濺射和直流濺射有什么區(qū)別

    直流負(fù)壓濺射和直流濺射在直流濺射中,帶正電的離子被吸引到接地的、帶負(fù)電的濺射靶上,從靶材上濺射出原子,然后這些原子在樣品(也稱(chēng)為襯底)上沉積形成薄膜。通常情況下,濺射靶被接到正極,而樣品端(襯底)被接到負(fù)極或接地。然而,有些情況下(如反濺射或偏壓濺射),樣品端會(huì)被接到正極以吸引多余的離子,從而實(shí)現(xiàn)清潔襯底表面或形成離子轟擊確保薄膜和基底的結(jié)合強(qiáng)度。這種電源連接方式可以提高薄膜的層內(nèi)應(yīng)力,改善其結(jié)晶性能,以及提高薄膜沉積效率。這種操作需要一定的注意事項(xiàng),因?yàn)闃悠范松细唠妷嚎赡軙?huì)...

  • 20241-4
    電學(xué)性能測(cè)試

    微型探針臺(tái)是一種可以在不同溫度下對(duì)材料進(jìn)行電學(xué)性能測(cè)試的設(shè)備,它有多種類(lèi)型和應(yīng)用,主要用于科學(xué)研究和教育實(shí)驗(yàn)。微型探針臺(tái)的工作原理是通過(guò)探針與樣品接觸,形成電路,然后通過(guò)電學(xué)儀表測(cè)量樣品的電阻、電容、電流、電壓等參數(shù),從而分析材料的特性。微型探針臺(tái)可以測(cè)試不同尺寸和形狀的樣品,例如晶圓、芯片、封裝器件、光電器件、材料片等。微型探針臺(tái)是一種高精度、高效率、高靈活性的測(cè)試設(shè)備,對(duì)于推動(dòng)材料科學(xué)和半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展有重要作用。優(yōu)點(diǎn):體積小,便于搬運(yùn)和安裝。精度高,能夠?qū)ξ⒚准?jí)的樣品進(jìn)...

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