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石英管真空封口機(jī)顆粒密封、實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用石英管真空半自動(dòng)封口機(jī)由工位旋轉(zhuǎn)平臺(tái)、波紋管、玻璃試管夾頭、排氣充氣測(cè)壓總套件等組成。管預(yù)抽真空后，在試管旋轉(zhuǎn)過(guò)程中，管壁材料經(jīng)高溫熔融并在外部大氣壓的作用下和管內(nèi)...

石英管真空封口液體封口本產(chǎn)品主要為石英管封口而開(kāi)發(fā)的一套與氫氧設(shè)備匹配的裝置。其工作原理為采用動(dòng)密封技術(shù)，讓內(nèi)有樣品的石英管（管內(nèi)無(wú)氧無(wú)水）在自動(dòng)旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下同時(shí)進(jìn)行石英管內(nèi)真空抽取、充氣；配合氫氧焰...

石英管真空封口機(jī)粉末封裝，真空封管機(jī)采取一體化設(shè)計(jì)，免去復(fù)雜安裝，只需要連接真空泵即可使用，石英管旋轉(zhuǎn)速度可調(diào)、抽真空速度可調(diào)（粉末、塊體樣品均適用）、充保護(hù)氣體速度可調(diào)，可對(duì)外徑5mm至50mm、長(zhǎng)...

小型離子濺射儀鍍膜儀一種有著緊湊結(jié)構(gòu)的桌上型鍍膜系統(tǒng)，對(duì)于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜尤為適用。試樣干燥清潔為離子濺射鍍膜的基本要求。在必要時(shí)，交換試樣與陰極的位置利用火花放電從而對(duì)試樣表面進(jìn)行...

不同的蒸發(fā)速率下沉積300nm的Au薄膜,研究蒸發(fā)速率對(duì)薄膜表面形貌和性能的影響。隨著蒸發(fā)速率的提高,薄膜的結(jié)構(gòu)變得致密,晶粒尺寸和表面粗糙度減小。高純度金靶材磁控濺射儀KT-Z1650PVD在較短時(shí)...

高純度金顆粒蒸鍍儀KT-Z1650CVD是我公司專(zhuān)為科研院所及實(shí)驗(yàn)室用戶(hù)群體設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)的一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)。蒸發(fā)源可兼容金屬、有機(jī)物蒸發(fā)、金屬粉末等。配有樣品擋板，可手動(dòng)或自動(dòng)開(kāi)/關(guān)擋板，達(dá)到及...

粉末坩堝蒸鍍儀KT-Z1650CVD是我公司專(zhuān)為科研院所及實(shí)驗(yàn)室用戶(hù)群體設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)的一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)。蒸發(fā)源可兼容金屬、有機(jī)物蒸發(fā)、金屬粉末等。配有樣品擋板，可手動(dòng)或自動(dòng)開(kāi)/關(guān)擋板，達(dá)到及時(shí)遮...

真空鍍銅蒸鍍儀KT-Z1650CVD是一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)。蒸發(fā)源可兼容金屬、有機(jī)物蒸發(fā)。廣泛應(yīng)用于高校、科研院所制備功能薄膜、蒸鍍電極、掃描電鏡制樣等。鍍銅可打底用，增進(jìn)電鍍層附著能力，及抗蝕...

等離子清洗機(jī)鄭科 探KT-S2DQX通常被用在 一：等離子表面活化/清洗；二：等離子處理后粘合;三： 等離子蝕刻/活化 四： 等離子去膠;五：等離子涂鍍(親水,疏水); 六： 增強(qiáng)綁定性；七：等離子...

三氧化二鋁磁控濺射儀KT-Z1650PVD為臺(tái)式磁控濺射鍍膜機(jī)在較短時(shí)間內(nèi)即可形成具有細(xì)粒度的均勻薄膜。儀器結(jié)構(gòu)緊湊，全自動(dòng)控制。利用直流磁控濺射和射頻磁控濺射技術(shù)，進(jìn)行某傳感器基底Al2O3薄膜絕緣...